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产品展示
  • OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP炉
    OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP炉

    1000°C小型RTP炉是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4“石英管和真空法兰,它是专为半导体和太阳能电池基片(顶值为3“)的退火而设计,采用10KW红外灯管加热快速升温的顶值速度为50°C/秒,30段温度控制,精度为+/-1°C,计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线。

    型号:OTF-1200X-4-RTP
    更新日期:2021-03-29
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  • OTF-1200X-50-S迷你型快速加热冷却炉
    OTF-1200X-50-S迷你型快速加热冷却炉

    迷你型快速加热冷却炉是一款CE认证的可滑动管式炉,配置外径50x1000mm石英管,工作温度达1200℃。炉底安装一对滑轨,可滑动。加热和冷却速率可达100℃/m。为取得更快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得更快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到15℃/s,是低成本快速热处理的理想

    型号:OTF-1200X-50-S
    更新日期:2021-03-24
    面议
  • OTF-1200X-IR-IISL双温区红外加热快速热处理炉
    OTF-1200X-IR-IISL双温区红外加热快速热处理炉

    OT-1200X-IR-ISL是一款双温区红外加热快速热处理炉,其炉管直径为4英寸,样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管,允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品升温速率达到50℃/S,冷却速率达到10℃/S此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区用来盛放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品)。

    型号:OTF-1200X-IR-IISL
    更新日期:2021-03-23
    面议
  • OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距离蒸发镀膜炉
    OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距离蒸发镀膜炉

    5英寸近距离蒸发镀膜炉是一款快速热处理炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS(CloseSpacedSublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管(分别位于顶部和底部),升温速率为20°C/s。

    型号:OTF-1200X-RTP-II-5
    更新日期:2021-03-23
    面议
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