1000°C小型RTP炉是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4“石英管和真空法兰，它是专为半导体和太阳能电池基片（顶值为3“）的退火而设计，采用10KW红外灯管加热快速升温的顶值速度为50°C/秒，30段温度控制，精度为+/-1°C，计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线。

型号：OTF-1200X-4-RTP

更新日期：2021-03-29

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迷你型快速加热冷却炉是一款CE认证的可滑动管式炉，配置外径50x1000mm石英管，工作温度达1200℃。炉底安装一对滑轨，可滑动。加热和冷却速率可达100℃/m。为取得更快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得更快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到15℃/s，是低成本快速热处理的理想

型号：OTF-1200X-50-S

更新日期：2021-03-24

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OT-1200X-IR-ISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品升温速率达到50℃/S，冷却速率达到10℃/S此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。

型号：OTF-1200X-IR-IISL

更新日期：2021-03-23

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5英寸近距离蒸发镀膜炉是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（CloseSpacedSublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5“x5“。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），升温速率为20°C/s。

型号：OTF-1200X-RTP-II-5

更新日期：2021-03-23

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