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产品展示
  • ALD-1200X-4双通道ALD管式炉系统
    ALD-1200X-4双通道ALD管式炉系统

    双通道ALD管式炉系统是一款4英寸管式炉系统,包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发生器以及用于CVD生长纳米材料和薄膜材料的4通道质子流量计控制系统。该管式炉系统简洁的设计使得更多的科研院所能够在可负担的低成本情况下实现ALD工艺实验。

    型号:ALD-1200X-4
    更新日期:2021-03-09
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  • OTF-1200X-S-HPCVD坩埚(样品台)可移动型1200°C管
    OTF-1200X-S-HPCVD坩埚(样品台)可移动型1200°C管

    OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备工作温度为1200℃。设备特点∶坩埚通过一步进电机控制炉管,按照设定程序移动,同时坩埚后端安装一热电偶(随坩埚仪器移动),可实时监测样品的温度,意味着可通过移动坩埚的位置,在炉体中准确找到实验所需要的温度,使得实验准确度更高,重复性更强。此款设备可用于多种实验

    型号:OTF-1200X-S-HPCVD
    更新日期:2021-03-09
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  • OTF-1200X-50-II-P带有预热系统的滑动PECVD
    OTF-1200X-50-II-P带有预热系统的滑动PECVD

    OTF-1200X-50-I-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉,预热炉(作用为使固体原料蒸发)和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD,方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。

    型号:OTF-1200X-50-II-P
    更新日期:2021-03-09
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  • OTF-1200X-80-III-F3LV1200°C三温区三通道混气CVD系统
    OTF-1200X-80-III-F3LV1200°C三温区三通道混气CVD系统

    1200°C三温区三通道混气CVD系统是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统,其管径为80mm,采用机械泵,它是由管式炉,三路浮子流量供气系统组成,其真空度可达到10-2torr。

    型号:OTF-1200X-80-III-F3LV
    更新日期:2021-05-07
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  • OTF-1200X-PESDFG-5双炉体滑动PECVD系统、循环手套
    OTF-1200X-PESDFG-5双炉体滑动PECVD系统、循环手套

    双炉体滑动PECVD系统&循环手套是一款双炉体滑动的PECVD系统,并目连接有循环手套箱。此款设备中石英炉管与一循环手套箱相连接,允许客户用CVD方法把样品制作好以后,直接把样品移入到气氛保护环境下的手套箱中。炉体采用滑动式,可在室验中对样品进行快速加热和快速冷却。此款仪器特别适合新—代纳米材料和二维晶体材料的探索研究。

    型号:OTF-1200X-PESDFG-5
    更新日期:2021-03-30
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  • OTF-1200X-50S-PE-S小型滑动PECVD管式炉系统
    OTF-1200X-50S-PE-S小型滑动PECVD管式炉系统

    小型滑动PECVD管式炉系统是一款小型的PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)(等离子体化学气相沉积)滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源,—个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索;

    型号:OTF-1200X-50S-PE-S
    更新日期:2021-03-30
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