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  • 小型滑动PECVD管式炉系统

小型滑动PECVD管式炉系统

简要描述:小型滑动PECVD管式炉系统是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced ChemicalVapor Deposition)(等离子体化学气相沉积)滑动式开启式管式炉系统。此套设备
带有300W的等离子射频电源,—个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的
PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索;

  • 产品型号:OTF-1200X-50S-PE-S
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2021-03-30
  • 访  问  量:21

产品介绍

品牌合肥科晶产地类别国产
应用领域医疗卫生,环保,化工,生物产业,农业
特点与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验可以通过炉体滑动达到快速升温和降温 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制通过工艺调节来控制化学计量 可以沉积各种材料,如SiOx.SiNx.SiOxNy和(a-SiH) 等
开启式管式炉

输入电源∶208-240V AC,功率;1.2kW

工作温度顶值1200℃,小于60分钟

炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维,并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可以提高加热效率,反射率及延长仪器的使用寿命(点击文字了解涂层的详细参数)

连续工作温度1100°C

炉管采用高纯石英管∶50mmOD x 44mmID x 1000mm L

可设置30段升降温程序,并且带有过热和断偶保护功能

加热区长度∶200mm 单温区

 恒温区2.3"(60mm)(+-15℃)@ 1000℃ 注∶ 由于测量手段及外部环境的影响,测里结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员

等离子体射频电源

输出功率:5 .300W 可调 稳定性±1%

射频电源频率∶ 13.56 MHz 稳定性±0.005%

反向功率顶值∶ 200W

匹配∶ 自动

射频电源电子输出端口∶ 50 Ω,N型半导体,阴极

噪音∶ <50 dB.

冷却∶风冷

电源∶208-240VAC,50/60HZ

真空法兰和接头

真空法兰采用 304不锈钢制作.

左端法兰上安装有 KF-25真空接口,2个KF-25快速卸装卡箍,KF-25直角阀,KF-25真空波纹管和 1/4软管接头和不锈钢针阀

真空泵及水冷机

 AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W

2Liter /S

出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)

真空度∶ 10-2 torr

可选水冷机

产品尺寸和重量

外形尺寸 1500mm x 600mm x 1200mm (长x宽x高)

净重∶160kg

质保期年质保期,终身维护(相关耗材除外,如炉管,密封圈等易耗件)
质量认证 CE Certified
使用注意事项:

工作时需连接水冷设备

炉管内气压不可高于0.02MPa

由干气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加准确安全

当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态

进入炉管的气体流量需小于200sCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击石英管的长时间使用温度< 1100℃

对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

 

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